사측 "협력사에 공정만 이전…여전히 설계기술 보유"
대만 D램 업체들이 한국을 발 빠르게 추격하는 가운데, 지난 2003년 하이닉스가 대만 제휴업체 프로모스에 이전한 기술을 놓고 뒤늦게 논란이 일고 있다.
25일 관련업계에 따르면 하이닉스가 작년 10월 자사의 최첨단 기술인 NOVA(80나노 공정기술)의 포토마스크 등을 프로모스로 넘긴 것과 관련해 `기술 이전이냐 유출이냐'는 논란이 일고 있는 것이다.
프로모스는 하이닉스로부터 이전받은 노바 기술을 자사 생산공정에 적용, 80나노 공정에서 어려움을 겪었던 S사보다 높은 수율에 도달한 것으로 업계는 보고 있다.
업계 한 관계자는 "작년 10월 기술을 이전받은 프로모스가 올 1월에 80나노 수율이 75∼80% 수준까지 도달해 S사의 80나노 기술인 D80과 거의 같거나 앞섰다"며 "한국보다 기술이 뒤졌던 대만이 하이닉스와의 제휴를 통해 대등한 위치에 도달했다"고 주장했다.
이와 관련 하이닉스 노조측은 프로모스를 통한 300mm 추가 생산 캐파 확보와 로열티 수익, 그리고 상계 관세 대응에서의 수익은 지난해 300억원에 이어 올해 400억원 수준에 머물 것이라고 지적했다. 반면 80나노 공정 등 최첨단 기술의 개발비용과 기술가치는 최소 5000억원에서 1조원을 능가해 하이닉스가 크게 손해를 보고 기술을 넘긴 것이라며 첨단기술 유출이라고 주장하고 있다.
이로 인해 현재 대만의 D램 제조기술이 크게 발전했으며, 부메랑 효과로 인해 한국 D램 업체들에 타격을 줄 것이라고 내다보고 있다.
이에 대해 하이닉스 관계자는 "프로모스와의 제휴에 따라 80나노 공정의 포토마스크를 대만으로 이전한 것은 사실"이라며 "반도체는 설계기술과 공정기술로 크게 나뉘는데 공정기술만 이전했을 뿐 설계기술은 여전히 하이닉스가 갖고 있어 기술유출이라고 하기에는 무리가 있다"고 반박했다.
그는 또 "80나노는 오래 전부터 하이닉스가 하던 것이어서 대만과의 기술격차는 여전히 존재하며, 일부의 주장과 달리 프로모스가 아직 80나노 양산에 들어가지 않은 상태에서 하이닉스가 올 상반기에는 66나노 D램을 생산해 기술격차를 계속 유지할 수 있다" 고 덧붙였다.
이 관계자는 "300mm 웨이퍼 양산능력을 확보한다는 측면에서 제휴사에 옛날 공정을 제공하는 것은 의미가 없다" 고 지적하기도 했다.
이같은 논란에 대해 업계의 또 다른 관계자는 "단순히 포토마스크를 넘긴 것은 기술유출이라고 보기 힘들다"면서도 "다만 대만에 첨단기술을 제공하는 것에 대해서는 고려할 필요가 있다"고 지적했다.
익명을 요구한 이 업계 관계자는 "하이닉스가 제휴 관계에 있는 프로모스에 기술을 넘기면 이 기술은 다른 대만 D램 업체들이 배울 수 있는 상황이 될 수밖에 없다"며 "대만 D램 업체들의 경쟁력을 높이는 단초가 될 것"이라고 말했다.
최근 대만달러 약세로 대만 D램의 원가경쟁력이 높아진데다, 첨단기술을 적극 도입함으로써 한국 D램 업체들을 빠르게 추격하는 배경에는 이같은 부메랑 효과가 작용하고 있기 때문으로 전문가들은 보고 있다.
대만 D램 업체들이 한국을 발 빠르게 추격하는 가운데, 지난 2003년 하이닉스가 대만 제휴업체 프로모스에 이전한 기술을 놓고 뒤늦게 논란이 일고 있다.
25일 관련업계에 따르면 하이닉스가 작년 10월 자사의 최첨단 기술인 NOVA(80나노 공정기술)의 포토마스크 등을 프로모스로 넘긴 것과 관련해 `기술 이전이냐 유출이냐'는 논란이 일고 있는 것이다.
프로모스는 하이닉스로부터 이전받은 노바 기술을 자사 생산공정에 적용, 80나노 공정에서 어려움을 겪었던 S사보다 높은 수율에 도달한 것으로 업계는 보고 있다.
업계 한 관계자는 "작년 10월 기술을 이전받은 프로모스가 올 1월에 80나노 수율이 75∼80% 수준까지 도달해 S사의 80나노 기술인 D80과 거의 같거나 앞섰다"며 "한국보다 기술이 뒤졌던 대만이 하이닉스와의 제휴를 통해 대등한 위치에 도달했다"고 주장했다.
이와 관련 하이닉스 노조측은 프로모스를 통한 300mm 추가 생산 캐파 확보와 로열티 수익, 그리고 상계 관세 대응에서의 수익은 지난해 300억원에 이어 올해 400억원 수준에 머물 것이라고 지적했다. 반면 80나노 공정 등 최첨단 기술의 개발비용과 기술가치는 최소 5000억원에서 1조원을 능가해 하이닉스가 크게 손해를 보고 기술을 넘긴 것이라며 첨단기술 유출이라고 주장하고 있다.
이로 인해 현재 대만의 D램 제조기술이 크게 발전했으며, 부메랑 효과로 인해 한국 D램 업체들에 타격을 줄 것이라고 내다보고 있다.
이에 대해 하이닉스 관계자는 "프로모스와의 제휴에 따라 80나노 공정의 포토마스크를 대만으로 이전한 것은 사실"이라며 "반도체는 설계기술과 공정기술로 크게 나뉘는데 공정기술만 이전했을 뿐 설계기술은 여전히 하이닉스가 갖고 있어 기술유출이라고 하기에는 무리가 있다"고 반박했다.
그는 또 "80나노는 오래 전부터 하이닉스가 하던 것이어서 대만과의 기술격차는 여전히 존재하며, 일부의 주장과 달리 프로모스가 아직 80나노 양산에 들어가지 않은 상태에서 하이닉스가 올 상반기에는 66나노 D램을 생산해 기술격차를 계속 유지할 수 있다" 고 덧붙였다.
이 관계자는 "300mm 웨이퍼 양산능력을 확보한다는 측면에서 제휴사에 옛날 공정을 제공하는 것은 의미가 없다" 고 지적하기도 했다.
이같은 논란에 대해 업계의 또 다른 관계자는 "단순히 포토마스크를 넘긴 것은 기술유출이라고 보기 힘들다"면서도 "다만 대만에 첨단기술을 제공하는 것에 대해서는 고려할 필요가 있다"고 지적했다.
익명을 요구한 이 업계 관계자는 "하이닉스가 제휴 관계에 있는 프로모스에 기술을 넘기면 이 기술은 다른 대만 D램 업체들이 배울 수 있는 상황이 될 수밖에 없다"며 "대만 D램 업체들의 경쟁력을 높이는 단초가 될 것"이라고 말했다.
최근 대만달러 약세로 대만 D램의 원가경쟁력이 높아진데다, 첨단기술을 적극 도입함으로써 한국 D램 업체들을 빠르게 추격하는 배경에는 이같은 부메랑 효과가 작용하고 있기 때문으로 전문가들은 보고 있다.
