국내 블랭크마스크 전문업체 에스앤에스텍(대표 남기수)은 국내 최초로 평면디스플레이(FPD)용 PSM(phase Shift Mask) 블랭크마스크 양산에 성공했다고 28일 밝혔다.
블랭크마스크는 반도체나 디스플레이 공정재료인 포토마스크의 원재료로서 석영유리기판 위에 회로패턴이 형성되기 전 차광막ㆍ반사방지막ㆍ감광막 등이 적층된 마스크를 말한다.
PSM블랭크마스크는 반도체용 마스크에서 이미 적용되던 기술로 빛의 위상을 180도 전환시켜 노광시 손실되거나 변형되는 빛을 최대한 막아 미세 패턴을 선명하게 구현할 수 있는 최첨단 마스크 기술이다. 회사측은 이미 반도체용 PSM 블랭크마스크를 공급해 왔으나 대면적 디스플레이용으로는 빛의 투과율 등 광학적 특성을 균일하게 유지하는 것이 어려워 양산에 어려움이 있었다고 설명했다.
그러나 이번에 FPD용 PSM 블랭크마스크 양산에 성공함으로써 액정표시장치(LCD)와 유기발광다이오드(OLED) 등 디스플레이에 적용할 경우, 전보다 뛰어난 고해상도 디스플레이 생산이 가능해졌다는 설명이다. 에스앤에스텍 측은 "PSM 블랭크마스크를 국내 포토마스크 고객사에 납품해 우수한 품질을 인정받은 만큼 앞으로 고해상도 디스플레이 시장에서도 기술력을 인정받을 수 있을 것"이라며 기대감을 나타냈다.
이홍석기자 redstone@
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블랭크마스크는 반도체나 디스플레이 공정재료인 포토마스크의 원재료로서 석영유리기판 위에 회로패턴이 형성되기 전 차광막ㆍ반사방지막ㆍ감광막 등이 적층된 마스크를 말한다.
PSM블랭크마스크는 반도체용 마스크에서 이미 적용되던 기술로 빛의 위상을 180도 전환시켜 노광시 손실되거나 변형되는 빛을 최대한 막아 미세 패턴을 선명하게 구현할 수 있는 최첨단 마스크 기술이다. 회사측은 이미 반도체용 PSM 블랭크마스크를 공급해 왔으나 대면적 디스플레이용으로는 빛의 투과율 등 광학적 특성을 균일하게 유지하는 것이 어려워 양산에 어려움이 있었다고 설명했다.
그러나 이번에 FPD용 PSM 블랭크마스크 양산에 성공함으로써 액정표시장치(LCD)와 유기발광다이오드(OLED) 등 디스플레이에 적용할 경우, 전보다 뛰어난 고해상도 디스플레이 생산이 가능해졌다는 설명이다. 에스앤에스텍 측은 "PSM 블랭크마스크를 국내 포토마스크 고객사에 납품해 우수한 품질을 인정받은 만큼 앞으로 고해상도 디스플레이 시장에서도 기술력을 인정받을 수 있을 것"이라며 기대감을 나타냈다.
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