
³í¹® Á¦¸ñÀº 'Atomic Layer Deposited High-k Dielectric on Graphene by Functionalization through Atmospheric Plasma Treatment'(»ó¾Ð ÇöóÁ 󸮸¦ ÅëÇØ È°¼ºÈµÈ ±×·¡ÇÉ Ç¥¸é À§ ¿øÀÚÃþ ÁõÂø °øÁ¤À¸·Î Çü¼ºµÈ °íÀ¯ÀüÀ² À¯Àüü)´Ù. ±¤¿î´ë Á¦°ø
³í¹® Á¦¸ñÀº 'Atomic Layer Deposited High-k Dielectric on Graphene by Functionalization through Atmospheric Plasma Treatment'(»ó¾Ð ÇöóÁ 󸮸¦ ÅëÇØ È°¼ºÈµÈ ±×·¡ÇÉ Ç¥¸é À§ ¿øÀÚÃþ ÁõÂø °øÁ¤À¸·Î Çü¼ºµÈ °íÀ¯ÀüÀ² À¯Àüü)´Ù.
³í¹®¿¡¼´Â ±×·¡ÇÉ ¼ÒÀ縦 ´Ù¾çÇÑ ÀüÀÚ¼ÒÀÚ¿¡ Àû¿ëÇϱâ À§ÇØ ±×·¡ÇÉ À§ °íÇ°Áú ¹Ú¸· ÁõÂø ±â¼úÀ» Á¦¾ÈÇÑ´Ù. ź¼Ò¿øÀÚ·Î ¹úÁý ¸ð¾ç °ÝÀÚ¸¦ ±¸¼ºÇÏ°í ÀÖ´Â ±×·¡ÇÉÀº ¿øÀÚ ÇϳªÀÇ ¾ãÀº µÎ²²¸¦ °®´Â 2Â÷¿ø ¼ÒÀçÀÌ¸ç ³ôÀº Àüµµµµ, À¯¿¬¼º, »ýüÀûÇÕ¼º µîÀÇ ¿ì¼öÇÑ Æ¯¼º ´öºÐ¿¡ Â÷¼¼´ë ÀüÀÚ ¼ÒÀç·Î¼ ¸¹Àº ¿¬±¸°¡ ÁøÇàµÇ°í ÀÖ´Ù. ÇÏÁö¸¸ ±×·¡ÇÉ Ç¥¸éÀº ÈÇÐÀûÀ¸·Î ºñÈ°¼ºÀûÀ̱⠶§¹®¿¡ ÈÇÐÀû °áÇÕ¿¡ ±â¹ÝÇÏ´Â ¿øÀÚÃþ ÁõÂø ±â¼úÀ» Àû¿ëÇØ ±×·¡ÇÉ Ç¥¸é¿¡ °íÇ°Áú ¹Ú¸·À» Çü¼ºÇÏ´Â µ¥ ¾î·Á¿òÀÌ ÀÖ¾ú´Ù.
À̹ø ¿¬±¸¿¡¼´Â »ó¾Ð ÇöóÁ °øÁ¤À» ÀÌ¿ëÇØ ±¸Á¶Àû ¹× Àü±âÀû ¼º´É ÀúÇϸ¦ ÃÖ¼ÒÈÇÏ¸é¼ ±×·¡ÇÉ Ç¥¸éÀ» È°¼ºÈÇßÀ¸¸ç, È°¼ºÈµÈ ±×·¡ÇÉ Ç¥¸é À§¿¡ ¿øÀÚÃþ ÁõÂø ±â¼úÀ» ÀÌ¿ëÇØ °íÇ°ÁúÀÇ ZrO2 À¯Àü ¹Ú¸·À» Çü¼ºÇÔÀ¸·Î½á ±×·¡ÇÉ Ç¥¸é¿¡¼µµ ÈÇÐÀû °áÇÕ¿¡ ±â¹ÝÇÑ ÁõÂø ±â¼úÀ» ÀÀ¿ëÇÒ ¼ö ÀÖÀ½À» º¸¿´´Ù.
Áöµµ ±³¼öÀÎ ÀÌÅÂÈÆ ±³¼ö(±¤¿î´ë Àü±â°øÇаú)¿¡ µû¸£¸é "ÀÌ ³í¹®Àº 2Â÷¿ø ¼ÒÀç ±×·¡ÇÉÀÇ Àü±âÀû ¹°¸®Àû Ư¼º ÀúÇϸ¦ ÃÖ¼ÒÈÇÏ¸é¼ °íÀ¯ÀüÀ² Àý¿¬¸·À» ÁõÂøÇÏ´Â ±â¼úÀ» ¿¬±¸ÇÑ °Í"À̶ó¸ç "±×·¡ÇÉ°ú °íÀ¯ÀüÀ² Àý¿¬¸·¿¡ ±â¹ÝÇÑ Ç÷º¼ºí ¹ÙÀÌ¿À¸ÞµðÄà ¼¾¼¸¦ ºñ·ÔÇÑ ´Ù¾çÇÑ ÀüÀÚ¼ÒÀÚÀÇ ±â¼ú ¹ßÀü¿¡ ±â¿©ÇÒ °ÍÀ¸·Î ±â´ëµÈ´Ù"°í ¸»Çß´Ù.
±¤¿î´ë´Â °¸íÈÆ ÇлýÀÌ '¾ÕÀ¸·Î ´ëÇпø¿¡ ÁøÇÐÇÏ¿© ±×·¡ÇÉ ±â¹Ý °í¹Î°¨µµ ¹ÙÀÌ¿À ¼¾¼ ¹× ÀüÀÚ¼ÒÀÚ¸¦ ¿¬±¸ÇÏ°í ±× °á°ú¸¦ ÀÌ¿ëÇØ ½ºÅ¸Æ®¾÷¿¡ µµÀüÇÏ°í ½Í´Ù'¸ç, '¸¹Àº ÇкλýµéÀÌ Çаú ±³¼ö´ÔµéÀÇ ¿¬±¸½Ç¿¡¼ ´Ù¾çÇÑ ¿¬±¸¿Í °æÇèÀ» ½×°í Áø·Î ¼±ÅÃÀÇ ÆøÀ» ³ÐÇûÀ¸¸é ÁÁ°Ú´Ù'°í ¸»Çß´Ù°í ¹àÇû´Ù.À̱ÔÈ ¼±ÀÓ±âÀÚ david@dt.co.kr
[ ÀúÀÛ±ÇÀÚ ¨ÏµðÁöÅПÀÓ½º, ¹«´Ü ÀüÀç ¹× Àç¹èÆ÷ ±ÝÁö ]