자이스는 이번 행사에서 노광 광학렌즈부터 포토마스크, 제조 공정, 반도체 정밀 검사에 이르는 반도체 솔루션을 공개할 예정이다. 특히 광화학적 극자외선(EUV) 포토마스크 리뷰 플랫폼인 'ZEISS AIMS® EUV'를 선보인다.
ZEISS AIMS® EUV는 EUV 자동분석 소프트웨어 패키지를 통해 이미지를 분석하고 데이터 처리 자동화를 진행할 수 있도록 했다. 또 집중이온빔(FIB)으로 제작한 단층을 주사전자 현미경(SEM) 모듈을 활용해 3차원 이미지로 구현하는 3D 단층촬영 솔루션도 공유해, 나노미터 정확도의 반도체 패턴 샘플링·분석·측정·검증이 가능하다.
자이스는 이밖에 △고해상도 X-ray 솔루션 기반 비파괴 분석 수행 장비 'ZEISS VersaXRM 730' △FIB-SEM 솔루션 'ZEISS Crossbeam laser' △ZEISS GeminiSEM △산업용 CT 솔루션 ZEISS METROTOM 1500 및 정밀 계측 3차원 층적기의 정보를 부스에 전시할 예정이다. 자이스는 부스에 채용 담당자를 상주하게 해 글로벌 채용 및 한국 인재 모집에도 나선다.
정현석 자이스코리아 대표는 "세미콘 코리아 2025을 통해 더 많은 고객들과 협력을 늘릴 수 있기를 기대하고 있다"고 말했다. 박순원기자 ssun@dt.co.kr
[저작권자 ⓒ디지털타임스 무단 전재-재배포 금지]
[ 저작권자 ⓒ디지털타임스, 무단 전재 및 재배포 금지 ]
